CAS NO: 5919-74-4 GMMA/گلیسریل مونومتاکریلات/2،3-دی هیدروکسی پروپیل متاکریلات

1. پلیمریزاسیون رادیکال آزاد: پلیمریزاسیون محلول یا پلیمریزاسیون امولسیونی را ترجیح دهید، که برای کاربردهای پایین دستی مانند پخت و چسباندن UV مناسب هستند. پلیمریزاسیون توده ای، به دلیل انتشار متمرکز گرما در طی فرآیند واکنش، مستعد انفجار پلیمریزاسیون است، بنابراین نیاز به کنترل دقیق دما دارد.
2. سازگاری با اشعه ماوراء بنفش: در سیستم فوتوپلیمریزاسیون می توان از آن به عنوان رقیق کننده فعال استفاده کرد. هنگامی که با شروع کننده نور ترکیب می شود، می تواند سرعت پخت سیستم را افزایش داده و نرخ انقباض را کاهش دهد.

1. سازگاری کم انقباض
2. سازگاری با محتوای جامد بالا
3. چسبندگی وسیع-طیف
4. عملکرد متعادل

دمای مطلوب نگهداری 5 تا 25 درجه سانتیگراد است. با ترکیب شرایط آب بندی ضد سبک با یک سیستم تثبیت کننده کامپوزیت، دوره ذخیره سازی پایدار مونومر را می توان تا حدود 6 ماه افزایش داد.

در سنتز چسب‌های حساس -فشار اکریلیک مبتنی بر آب-، این یک اصلاح عملکرد واحد نیست، بلکه از سه بعد - جوهره اتصال لایه چسب، پایداری پراکندگی سیستم و دوام لایه چسب در حین استفاده - راه‌حل‌های دقیق پنج هسته‌ای از آب ارائه شده است. چسب های حساس به فشار، مانند ناتوانی در چسبیدن، مقاومت در برابر دمای ضعیف، ترس از آب، مستعد چسبندگی مجدد-و مشکل در متعادل کردن عملکرد.

بهبود کارایی پوشش عمدتاً بر تسطیح، مرطوب کردن، تشکیل فیلم و پنجره ساخت و ساز در طول فرآیند ساخت و ساز متمرکز است. بهینه سازی عملکرد کلی فیلم حول شاخص های اصلی استفاده مانند چسبندگی، چگالی اتصالات عرضی، سختی، مقاومت در برابر رسانه و انعطاف پذیری می چرخد. هم برای پوشش‌های قابل درمان-مبتنی بر آب و هم برای پوشش‌های قابل درمان مبتنی بر حلال-UV-مبتنی بر اشعه ماوراء بنفش{5}}روش یا براقیت اولیه فیلم تأثیری ندارد. این یک مونومر هسته چند منظوره برای اصلاح پوشش‌های قابل درمان{7}}UV است.

1. اثر هم افزایی سایت های عملکردی دوگانه
2. واکنش متقابل{1}}بالا
3. خاصیت کوپلیمریزاسیون خوب
4. افزایش چسبندگی بستر